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Resina a Scambio Ionico Misto AmberTec™ UP6040 H/OH per Acqua Ultra-Pura con Resistività di 18 MΩ*cm e Basso Contributo di TOC
Dettagli:
| Luogo di origine: | Cina |
| Marca: | Dupont |
| Certificazione: | ISO 9001 |
| Numero di modello: | DuPont ™ Ambertec ™ UP6040 H/OH |
Termini di pagamento e spedizione:
| Quantità di ordine minimo: | 1 set |
|---|---|
| Prezzo: | negoziabile |
| Imballaggi particolari: | Cassa/cartone di legno standard dell'esportazione o nudo avvolto da pellicola |
| Tempi di consegna: | 7 giorni lavorativi |
| Termini di pagamento: | T/T, Western Union, PayPal ecc. |
| Capacità di alimentazione: | 60000 unità al mese |
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Informazioni dettagliate |
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| Copolimero: | Stirene-divinilbenzene | Matrice: | Gel |
|---|---|---|---|
| Tipo: | Forte catione acido | Gruppo Funzionale: | Acido solfonico |
| Forma fisica: | Perle sferiche di colore ambrato scuro, traslucide | ||
| Evidenziare: | Resistività 18 MΩ*cm Resina a scambio ionico a letto misto,Basso contributo di TOC Resina lucidante ad acqua ultrapura,Resina a cationi acidi forti Resina a scambio ionico H/OH |
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Descrizione di prodotto
La Resina a Scambio Ionico a Letto Misto AmberTec™ UP6040 H/OH è una resina deionizzante a letto misto di alta qualità, progettata per applicazioni di lucidatura finale nei sistemi di trattamento dell'acqua ultra-pura (UPW). Combinando una resina cationica forte ad alta capacità in forma H⁺ e una resina anionica forte in forma OH⁻, questa resina a letto misto completamente rigenerata offre prestazioni eccezionali di rimozione ionica e aiuta a raggiungere una qualità dell'acqua con resistività ultra-elevata.
Progettata per settori esigenti che richiedono acqua estremamente pulita, AmberTec™ UP6040 H/OH offre prestazioni di lucidatura stabili con una bassissima perdita ionica e un rilascio organico controllato. È ampiamente applicata nella produzione di semiconduttori, nella produzione fotovoltaica, nei sistemi idrici farmaceutici, nella purificazione di laboratorio e negli impianti di generazione di energia.
La resina è ottimizzata per l'uso dopo osmosi inversa (RO), elettrodeionizzazione (EDI) o altri processi di deionizzazione in cui è richiesto un miglioramento della qualità finale dell'acqua.
Progettata per la purificazione in fase finale:
- Produce acqua di qualità fino a: Resistività di 18 MΩ·cm
- Perdita ionica estremamente bassa
- Basso contributo TOC
- Adatta per applicazioni critiche UPW
Il sistema di resina combina:
- Forma ionica: H⁺
- Elevata capacità di scambio
- Rimozione efficiente degli ioni carichi positivamente
- Forma ionica: OH⁻
- Forma idrossido ad alta purezza
- Rimozione efficace degli ioni carichi negativamente
Insieme forniscono una rimozione ionica continua e prestazioni di lucidatura di alta qualità.
- Acqua per la pulizia dei wafer
- Acqua di processo ultra-pura
- Produzione di microelettronica
- Acqua di produzione ad alta purezza
- Processi di produzione di celle
- Sistemi di acqua purificata
- Acqua di laboratorio ad alta purezza
- Trattamento critico dell'acqua di processo
- Lucidatura dell'acqua di alimentazione delle caldaie
- Sistemi di circolazione dell'acqua ad alta purezza
- Vasi di lucidatura a letto misto
- Sistemi di deionizzazione a letto impaccato
- Cartucce di resina sostituibili
- Sistemi di deionizzazione a scambio portatile
- Circuiti di circolazione dell'acqua ad alta purezza
| Proprietà | Resina Cationica | Resina Anionica |
|---|---|---|
| Struttura Polimerica | Stirene-DVB | Stirene-DVB |
| Tipo di Matrice | Gel | Gel |
| Gruppo Funzionale | Acido Solfonico | Trimetilammonio |
| Tipo di Resina | Cationica Forte | Anionica Forte Tipo I |
| Forma Ionica | H⁺ | OH⁻ |
| Capacità di Scambio Totale | ≥2.00 eq/L | ≥1.10 eq/L |
| Capacità di Ritenzione Idrica | 45-51% | 54-60% |
| Conversione Ionica | ≥99% H⁺ | ≥95% OH⁻ |
| Intervallo | Resina Cationica | Resina Anionica |
|---|---|---|
| Diametro Particelle | 525 ± 50 µm | 630 ± 50 µm |
| Coefficiente di Uniformità | ≤1.20 | ≤1.20 |
| Particelle Fini | ≤0.1% (<300 µm)-- | Caratteristiche Prestazionali |
| ≤5.0% (>850 µm) | -- | Caratteristiche Prestazionali |
| Intervallo | Resistività Risciacquo UPW (10 min) |
|---|---|
| ≥18 MΩ·cm | ΔTOC Dopo Risciacquo |
| ≥18 MΩ·cm | ΔTOC Dopo Risciacquo |
| ≤3 ppb C | Condizioni Operative Raccomandate |
| Intervallo | Temperatura Operativa |
|---|---|
| 15-25°C | Intervallo pH Stabile |
| 0-14 | Peso di Spedizione |
| Circa 710 g/L | Garanzia di Qualità |
Test di risciacquo della resistività
- Test prestazionali TOC
- Verifica delle prestazioni cinetiche
- Ciò garantisce una qualità costante della resina per applicazioni esigenti di acqua ultra-pura.
Note su Sicurezza e Manipolazione
Gli utenti devono consultare la documentazione di sicurezza pertinente e seguire le procedure di manipolazione raccomandate per garantire prestazioni sicure e affidabili della resina.
AmberTec™ UP6040 H/OH – Soluzione Affidabile di Lucidatura Finale per Acqua Ultra-Pura
